Ausstattung
Die Core Facility LOC bietet fortschrittliche Technologien für:
- Photolithographie: Präzisionsstrukturierung für Mikrostrukturen
- Weichlithography: Flexible Fertigungstechniken
- Polymer-Mikrostrukturierung: Kundenspezifische Mikromerkmale auf Polymeren wie Elastomeren (z. B. PDMS), photohärtbaren Harzen (z. B. SU-8, AZ-Photoresiste), Fluorkunststoffen (z. B. THV) und Hydrogelen (z. B. Polyacrylamid)
- Dünnschichtabscheidung: Gleichmäßige Beschichtung von Siliziumwafern und anderen Substraten
- Mikrofluidik und Tröpfchenmikrofluidik: Flüssigkeitskontrolle und Hochgeschwindigkeitsvisualisierung für Lab-on-a-Chip-Systeme
- Mikrostruktur-Charakterisierung: Umfassende Analyse von Mikrostrukturen
Alle Geräte sind in einer Reinraumumgebung installiert, um optimale Leistung und Zuverlässigkeit zu gewährleisten. Weitere Informationen zu unseren Geräten finden Sie auf den Unterseiten.